HMDS真空鍍膜機(jī)化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)，指需在低真空度下進(jìn)行的鍍膜。對(duì)箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量，所有工藝都在密閉的環(huán)境中進(jìn)行，沒有HMDS揮發(fā)，提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃

HMDS真空鍍膜機(jī)化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)，指需在低真空度下進(jìn)行的鍍膜。對(duì)箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量，所有工藝都在密閉的環(huán)境中進(jìn)行，沒有HMDS揮發(fā)，提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃

HMDS真空鍍膜機(jī)化學(xué)名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），又稱HMDS基片預(yù)處理系統(tǒng)，指需在低真空度下進(jìn)行的鍍膜。對(duì)箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量，所有工藝都在密閉的環(huán)境中進(jìn)行，沒有HMDS揮發(fā)，提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃